比利時(shí)校際微電子研究中心（imec）近日宣布，其長期技術(shù)合作伙伴ASML已向其交付了一臺高數(shù)值孔徑極紫外光（High NA EUV）光刻系統(tǒng)——EXE:5200。這臺設(shè)備將被部署在imec位于比利時(shí)魯汶的總部，為亞2納米（sub-2nm）制程的中試線項(xiàng)目NanoIC提供核心技術(shù)支持。

據(jù)介紹，EXE:5200是當(dāng)前半導(dǎo)體制造領(lǐng)域最先進(jìn)的光刻設(shè)備之一，其高數(shù)值孔徑設(shè)計(jì)可顯著提升光刻分辨率，為開發(fā)亞2納米制程工藝奠定基礎(chǔ)。imec與ASML的合作歷史悠久，此前雙方已在荷蘭費(fèi)爾德霍芬的ASML總部聯(lián)合建立了High NA EUV光刻實(shí)驗(yàn)室，與全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈伙伴共同推進(jìn)下一代圖案化技術(shù)的研發(fā)。

此次新設(shè)備的引入將進(jìn)一步拓展imec的研發(fā)能力。機(jī)構(gòu)方面表示，EXE:5200的加入不僅為實(shí)驗(yàn)室提供了更高的工藝自由度，還使其具備接近量產(chǎn)級別的技術(shù)驗(yàn)證條件，有助于加速亞2納米制程從實(shí)驗(yàn)室到量產(chǎn)的轉(zhuǎn)化進(jìn)程。

根據(jù)規(guī)劃，imec將對EXE:5200系統(tǒng)進(jìn)行全面認(rèn)證，預(yù)計(jì)認(rèn)證工作將于2026年第四季度完成。這一時(shí)間節(jié)點(diǎn)與全球半導(dǎo)體行業(yè)向更先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn)邁進(jìn)的步伐保持同步，或?qū)樾袠I(yè)技術(shù)迭代提供重要參考。