以X射線為光源的光刻技術領域迎來重大突破。一家名為Substrate的初創(chuàng)企業(yè)宣布，其計算光刻技術堆棧在引入谷歌DeepMind的AlphaEvolve編程智能體后，實現了性能的飛躍式提升。
在短短一個月內，Substrate的計算光刻工作負載運行速度提升了680%，計算成本大幅降低97%，內存用量也減少了94%。這一成果得益于AlphaEvolve對技術堆棧的深度優(yōu)化，在確保底層物理規(guī)律完整性的前提下，顯著降低了計算所需的分辨率要求。
技術團隊通過調整代碼數據類型，使這類工作負載能夠高效運行于谷歌TPU的算力平臺上。更令人矚目的是，AlphaEvolve的引入讓Substrate能夠自動化探索數十萬個潛在算法改進點，徹底改變了傳統(tǒng)研發(fā)模式。這種自動化探索能力使研發(fā)團隊無需依賴大量實際測試，即可精準定位技術弱點并制定改進方案。
在具體應用層面，Substrate借助AlphaEvolve的支持，僅通過單次光刻工藝就實現了12納米特征尺寸的雙向M1金屬互聯層制造。這一精度指標已達到High NA EUV系統(tǒng)的水平，標志著X射線光刻技術在先進制程節(jié)點上取得關鍵突破。該成果不僅驗證了新型計算架構的可行性，更為半導體制造領域提供了新的技術路徑選擇。
