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國產(chǎn)突破!御微半導體Raptor-500填補90納米及以上掩模檢測領(lǐng)域空白

   發(fā)布時間:2026-03-28 07:05 作者:沈如風

在半導體產(chǎn)業(yè)邁向AI驅(qū)動的新階段,先進制程與化合物半導體技術(shù)正成為行業(yè)增長的核心驅(qū)動力。作為國內(nèi)集成電路光學量檢測領(lǐng)域的創(chuàng)新力量,御微半導體近日在SEMICON China展會上正式發(fā)布新一代掩模圖形缺陷檢測設(shè)備——Raptor-500,為國內(nèi)半導體制造產(chǎn)業(yè)鏈注入關(guān)鍵技術(shù)動能。

這款專為90納米及以上制程節(jié)點設(shè)計的設(shè)備,實現(xiàn)了國產(chǎn)裝備在細分領(lǐng)域的技術(shù)突破。據(jù)御微半導體助理總裁聶秋平介紹,Raptor-500的研發(fā)歷時三年,整合了透射反射紫外光學成像、高速氣浮運動控制、深度學習算法等核心技術(shù),形成覆蓋硬件到軟件的完整解決方案。目前該設(shè)備已完成國內(nèi)頭部客戶的量產(chǎn)驗證,標志著國產(chǎn)掩模檢測裝備正式進入成熟制程市場。

在半導體制造流程中,掩模版作為芯片圖形的載體,其質(zhì)量直接影響晶圓良率。御微半導體掩模產(chǎn)品事業(yè)部總經(jīng)理王偉指出,Raptor-500通過六大核心功能構(gòu)建起全生命周期質(zhì)量管控體系:設(shè)備支持P375至P150多像素規(guī)格切換,可適配不同工藝節(jié)點的檢測需求;兼容二元掩模、相移掩模等主流版型;提供DD、SD、Combo等五種檢測模式組合;具備GDS、OASIS等多格式數(shù)據(jù)處理能力;其模塊化設(shè)計使設(shè)備占地面積減少30%,特別適合FAB廠緊湊布局。

性能測試數(shù)據(jù)顯示,Raptor-500在關(guān)鍵指標上達到行業(yè)領(lǐng)先水平:最小可檢測缺陷尺寸突破40納米,單版檢測時間較傳統(tǒng)設(shè)備縮短40%,關(guān)鍵缺陷檢出率實現(xiàn)100%。這些突破得益于其創(chuàng)新的物理仿真檢測算法,該算法通過模擬光學系統(tǒng)與掩模材料的相互作用,可在不同工藝條件下保持檢測穩(wěn)定性。配套的缺陷分析系統(tǒng)還能預測缺陷在晶圓上的實際影響,幫助客戶減少20%以上的無效修復操作。

隨著Raptor-500的加入,御微半導體已形成覆蓋掩模制造全鏈條的產(chǎn)品矩陣。從玻璃基板檢測的Halo系列,到無圖形缺陷檢測的i6R設(shè)備,再到先進封裝的APEX原子力顯微鏡,公司構(gòu)建起從原材料到成品的全流程質(zhì)量控制體系。這種系統(tǒng)化布局使客戶能夠在單一供應(yīng)商框架內(nèi)完成設(shè)備選型、工藝開發(fā)到量產(chǎn)維護的全周期服務(wù)。

在服務(wù)體系建設(shè)方面,御微半導體建立了覆蓋全球的快速響應(yīng)網(wǎng)絡(luò)。除國內(nèi)六大研發(fā)生產(chǎn)基地外,公司在新加坡、韓國等地設(shè)立了技術(shù)支持中心,配備超過200名專業(yè)工程師。針對Raptor-500用戶,公司推出"90分鐘應(yīng)急響應(yīng)"機制,確保設(shè)備故障在4小時內(nèi)恢復運行,這一服務(wù)標準已達到國際領(lǐng)先水平。

行業(yè)分析師指出,在半導體設(shè)備國產(chǎn)化率不足15%的背景下,Raptor-500的量產(chǎn)具有雙重戰(zhàn)略意義:既填補了國內(nèi)成熟制程檢測設(shè)備的空白,也為先進制程裝備研發(fā)積累了技術(shù)經(jīng)驗。據(jù)御微半導體透露,基于Raptor-500平臺開發(fā)的28納米檢測設(shè)備已進入工程樣機階段,預計將在2026年完成客戶驗證。

 
 
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